【欧洲杯决赛买球】多个传感器间相互位置关系校准方法
栏目:专题报道 发布时间:2021-11-11

本文摘要:自主创新无限极,仪表盘大发明人。

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自主创新无限极,仪表盘大发明人。今日为大伙儿解读一项我国发明人批准专利权——好几个传感器间相互之间方位关联校正方式。该专利权由上海微电子武器装备有限责任公司申报人,并于17年6月27日获得批准公示。內容表述本产品涉及集成电路芯片生产制造行业,特别是在涉及一种好几个传感器间相互之间方位关联校正方式。

发明人情况投射扫描式(TFT)光刻技术的目地是把掩模上图型明确、恰当地电子光学在涂光刻技术的基板上,伴随着基板规格的减少,掩模、基板的地应力不容易对套刻結果造成非常大的危害,因而必不可少在掩模或基板上布局更强的标识。为了更好地提高产出率,现明确指出一种曝出设备,该设备还包含:灯光效果系统软件1,掩模2、掩模台3、基板对准系统软件4、物镜列阵5、曝出场6、基板7及其产品工件台8。该光刻技术系统软件工作中时,灯光效果系统软件1根据物镜列阵5将掩模2上的图象电子光学到基板7的每一个曝出场6上,根据产品工件台8与掩模台3即时健身运动顺利完成扫瞄曝出姿势。

掩模台3支撑点掩模2健身运动、产品工件台8支撑点基板7健身运动,产品工件台检测系统和掩模台检测系统各自精确测量产品工件台8和掩模台3的方位。为了更好地顺利完成物镜列阵5的摄像镜头拼接,务必应用好几个掩模对准传感器另外执行掩模对准的计划方案。殊不知,因为掩模对准传感器、基板对准传感器相对性于产品工件台8或是整个机械架构不容易再次出现热改变,假如再作应用本来的传感器方位关联推算出来掩模2相对性于产品工件台8、基板7相对性于产品工件台8的方位关联不容易引起套刻出现偏差的原因。

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因而,怎样对好几个传感器间的方位关联进行校正,沦落本行业专业技术人员急需解决的一个技术性难题。发明人內容本产品获得一种好几个传感器间相互之间方位关联校正方式,以解决困难传感器间相互之间方位改变难题,进而防止该改变对套刻的危害。

为解决困难所述技术性难题,本产品获得一种好几个传感器间相互之间方位关联校正方式,根据掩模对准传感器和基板对准传感器精确测量设定在产品工件台标准版上的标准标识,建立掩模对准传感器与基板对准传感器中间的方位关联。图为掩模与基板方位关联的逻辑联系图确立还包含:流程1:应用掩模对准传感器对产品工件台标准版上的标准标识进行方位精确测量;流程2:根据该标准标识上的第一标识对掩模对准传感器进行方位校准;流程3:根据该对准标识上的第二标识对基板对准传感器进行方位校准。做为代替性,校准还包含线下校准和线上校准。上述线下校准流程还包含:应用干涉仪各自对每一个掩模对准传感器和每一个基板对准传感器进行方位校准,建立掩模对准传感器、基板对准传感器与干涉仪中间的关联;挪动产品工件台,应用一个基板对准传感器依次对准产品工件台标准版上的标准标识,并校准每一个标准标识相对性于产品工件台的方位;使第一标识另外对准全部基板对准传感器,进而校准全部基板对准传感器的方位。

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上述线上校准流程还包含离轴基准线重做和同轴输出基准线重做。上述离轴基准线重做还包含:将全部基板对准传感器另外对准第一标识,测到的产品工件台标准版的方位转变,并把线上测到的产品工件台标准版的方位转变赔偿到上述基板对准传感器上。

上述同轴输出基准线重做还包含:挪动掩模台和产品工件台到物镜列阵下,全部掩模对准传感器精确测量其分别相匹配的第二标识的清晰度值转变,从而重做上述标准标识的清晰度方位。两掩模对准传感器间隔与两基板对准传感器间隔完全一致。上述掩模对准传感器和基板对准传感器的排列方位完全一致,皆与光刻技术系统软件的扫瞄方位横着,能够测得基板内的高级地应力。

上述第一标识和第二标识一部分重叠与目前技术性相比,本产品根据掩模对准建立掩模与产品工件台的方位关联,再作建立基板与产品工件台的方位关联,进而能够间接性建立掩模与基板的方位关联,能够合理地解决困难掩模、基板传感器间相互之间方位改变难题,进而防止该改变对套刻的危害。


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